真空镀膜试验平台采购项目(第二次招标)[澄清公告]

澄清公告 一、项目基本情况

原公告的采购项目编号（或招标编号、采购计划备案文号等，如有）：621HW登录后查看

原公告的采购项目名称：真空镀膜试验平台采购项目(第二次招标)

首次公告日期：登录后查看

二、更正信息

更正事项：□采购公告 √采购文件      

更正内容：1、招标文件第五章供货要求“四技术要求（一）整体要求（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）*外形尺寸（不得超过）：深1000mm,宽1700mm，高2500mm。”变更为“四技术要求（一）整体要求（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）*外形尺寸（不得超过）：深2000mm，宽2000mm，高2500mm”；
    2、招标文件第五章供货要求“四技术要求（三）溅射源系统配置：（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）基础配置：同时配置以下三套溅射源及其对应电源：*① 1支平面靶，电源：10kw的磁控溅射HIPIMS电源，峰值功率可达兆瓦级、不低于2kV高压宽脉冲、消除液滴的抑弧技术、兼容直流模式；”

变更为“四技术要求（三）溅射源系统配置：（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）基础配置：同时配置以下三套溅射源及其对应电源：*① 1支平面靶，电源基本指标要求：
    参数                 规格
    峰值功率：       最高 4 兆瓦（MW）
    核心技术：       HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射）
    工作模式：       HiPIMS 模式 + 直流（DC）模式
    等离子体特性：   高密度、高离子化率等离子体
    电弧管理：       CompensateLine（CLC）全数字化电弧管理
    冷却方式：       全水冷设计，适用于洁净室环境
    设备形态：       紧凑型单元，无需外部直流电源”

更正日期：登录后查看

三、其他补充事宜

    无

四、凡对本次公告内容提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息

名    称：登录后查看公司

地    址：北京市丰台区丰台科学城中核路5号

联系方式：010-登录后查看

2.采购代理机构信息

名    登录后查看公司

地    址：北京市丰台区开阳路8号京印国际中心A区701

联系方式：登录后查看